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產(chǎn)品名稱：
RTP機臺測溫儀EX-ET-222
描述：RTP機臺測溫儀EX-ET-222廣泛用于AMAT等公司的快速退火，擴散及氧化工藝。訪問次數(shù)： 1172更新時間： 2025-07-25
產(chǎn)品介紹
主要特點
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詳細說明
作為擁有30多年歷史的貴金屬熱電偶行業(yè)先驅(qū)者, BASF已將其溫度測量技術(shù)專長應(yīng)用于光學(xué)溫度測量。 BASF Exactus®紅外溫度傳感器取得了技術(shù)性突破，在非接觸式溫度測量中表現(xiàn)出了顯著的性能優(yōu)勢。與其他同類產(chǎn)品相比，其靈敏的電子技術(shù)、精密光學(xué)技術(shù)以及利用短波長測量低溫的能力使得過程控制更加嚴格、精度更高、整體性能更好.
RTP機臺測溫儀EX-ET-222系BASF Exactus®系列產(chǎn)品在控制晶圓之間溫度和薄膜厚度的均勻性方面具有許多優(yōu)勢：高度敏感的電子學(xué)和先進的光學(xué)技術(shù)意味著可以用更短波長的探測器來測量輻射能，這減少了晶圓透射及發(fā)射率造成的誤差。此外，高速測量和高分辨率確保了控溫和噪聲抑制的優(yōu)異性能， 由此提供了更好的晶圓溫度監(jiān)控和生產(chǎn)工藝。
RTP機臺測溫儀EX-ET-222采用900nm左右的傳感器直連光管連接形式結(jié)合多通道IFM10-EC，最多可實現(xiàn)10點實時測量和記錄，測溫范圍覆蓋250-1300℃，精度高達1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。可適配AMAT的RTP測溫系統(tǒng)。
BASF Exactus®系列紅外測溫設(shè)備已廣泛用于快速退火、快速氧化、薄膜沉積等半導(dǎo)體工藝，并被集成在多家MOCVD設(shè)備以及其他RTP設(shè)備上如：AIXTRON， LPE，Premtek，AMAT等。另外，由于其具有很高的測溫精度和穩(wěn)定性，也被一些高溫黑體爐廠家作為溫度標準器使用，如Thermogauge公司。
典型應(yīng)用
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技術(shù)參數(shù)
| 測量參數(shù) | |
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| 溫度范圍: | 250 – 1300℃ |
| 工作波長: | 約900nm |
| 測量精度: | 優(yōu)于1.5℃ 或 0.15%測值 |
| 分辨率: | 最高0.01℃ |
| 重復(fù)精度: | 0.1℃ |
| 溫度漂移: | 最大 0.10℃/年 環(huán)境: 0.05℃/℃ @ 20-45℃, 0.10℃/℃ @ 其它溫度 |
| 鏡頭: | 光管 |
| 物理參數(shù) | |
|---|---|
| 環(huán)境溫度: | 電子器件: 10 - 60℃ |
| 重量: | 標準高溫計，0.222 kg |
| 功率: | 0.75W (電子模塊) |
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